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后世的无尘车间的洁净度。

按标准分为六级,从1级、10级、100级,一直到最普通的10万级。

什么意思呢,其实指的就是每立方米内,尘粒、微生物、浮游菌数的最大允许数,还包括多大微米的粒子数不超过多少个。

比如万级无尘车间,就规定每立方米内,微生物和浮游菌数,最多不能超过500;大于5微米的尘粒数,最多不能超过2万;大于0·5微米的尘粒数,最多不能超过350万。

这种车间,也就是我们常说的C级车间。

可用来装备液压设备或挤压设备,食品饮料等。

进出必须穿长袍无尘衣、无尘鞋、戴帽子与面罩。

100级无尘车间的规格,则要求每立方米内,微生物和浮游菌数,不能超过5个;大于5微米的尘粒数不能存在;大于0·5微米的尘粒数,最多不能超过3500个。

这也是我们后世中,最常见的A级无尘车间。

一般用于医药工业的无菌制造,尖端光学产品的生产,或者顶尖的外科手术以及术后隔离上。

进出需要穿戴特殊的洁净连体衣和无尘鞋,将全身裹住,并戴上手套和面罩。

而1级的无尘车间,已经不允许有1微米以上的尘粒了。

这种车间,多用于集成电路的微电子工业,可以满足精确到亚微米的需求。

但是事实上,10级的无尘车间,也能满足线宽小于2微米的半导体工业需求。

莫世文规划的这座试验性科技园区。

涵盖了从万级到1级的好几个类别。

为的就是一步到位,省却有需要时临时抱佛脚的麻烦。

比如在明年的规划里。

汽车发动机的制造与组装、特种合金的材料制备、超高分子量聚乙烯纤维和碳纤维的工艺生产制备试验等。

都离不开这样标准的车间。

“昌明工业大厦那边的所有东西,都在这里了?”

莫非看着车间内无数的机床设备和实验仪器,感觉有些眼花缭乱的。

“一部分在这里,还有一部分并没有拿出来。”

莫世文这样一说,莫非也就瞬间明白了。

的确,有好多东西,还是暂时无法曝光的。

只能等盘古研究院的五行楼交付使用之后,莫世文有了真正的独立实验室,才能肆无忌惮的大展拳脚。

而现在的1号试验车间,是准备用来为天工半导体打造芯片生产线的。

到时候,会有不少的工程师入驻。

按照当初周崇华在美利坚招聘时签署的合约,这些人,大多数是要在元旦后才会来香江的。

而正式的大规模招聘,莫非还是决定放在研究院正式启用之前。

否则,还真的很难安排如何分工。

当然了,这些事情也不需要他来操心。

商务上有周崇华和他的团队负责,研发上有莫世文在统筹安排,哪一个都比他强了不止一筹。

而他,也乐的站在背后指点江山。

现在这样一内一外的局势,很完善也很和谐。

内部掌握核心技术,进而推陈出新,更迭换代,专注于项目研发。

至于需要的外购件以及完善的技术专利,则交给外部去操作。

泾渭分明且配合默契,绝对的相得益彰。

比如这次需要打造的芯片生产线,也有很多零部件需要外购,世界上没有哪一家公司,可以做到全覆盖上中下游所有产业链的。

哪怕一个国家,有时候都不行。

就拿光刻机来说吧,其实它说白了就是一台超、超、超高精密度的照相机,能把设计好的电路投影到硅片上。

所谓的光刻机构件。

也不外乎是对准器与正负性光刻胶等。

但是它的发展,却一直在求新求变。

从60年代的触式和接近式,到70年代的投影式,再到80年代步进式,甚至新世纪的浸入式以及EUV。

都可以写一本小说了。

光刻机的重要性毋庸置疑,各国也一直在持续投入研发光刻技术。

1978年,美利坚的GCA公司,花费500万美元的巨资,终于开发出了光学图形发生器和分步重复精缩机。

成功研制出了全球第一台,分步重复投影曝光机Mann 4800 DSW。

将线宽从1·5微米,缩小到了0·5微米节点。

它用的,是波长436纳米的G线,作为曝光光源,Carl Zeiss的S-Planar 10/0·28镜头,进行10:1的缩小比例曝光。

可以对10毫米乘以10毫米的区域进行曝光,分辨率可达1微米。

售价45万美元。

相对于之前市场上,那些接触式或接近式的设备,GCA的Mann 4800 DSW可以说是革命性的。

它不但改变了对准器对晶圆造成的污染,还利用分步重复的大覆盖面,进一步提高了产品的良品率。

但是,它有一个很致命的缺陷,那就是吞吐量太低。

致使生产效率无法提高。

所以,莫非想要的,是新一代步进扫描式投影曝光机。

将光源技术、物镜技术,以及后来的精密工作台的制造技术,全部攥到手里。

至于普通的零部件,满世界有的是商家提供。

不但能货比三家,还可以随时有备胎可以选择。

这才是理想中的形势。

他想尝试一下,看看自己是不是比老美更牛逼。

在光刻机领域内,后世的阿斯麦够牛吧,在高端市场上一统江山,无人能出其右,要多风光有多风光。

但是,仔细分析一下,你就会发现。

阿斯麦的风光,基础并不那么牢靠。

它算得上是一个集大成者的企业,却绝不是一家,可以俯瞰芸芸众生的企业。

因为他自己掌握的核心技术,只有百分之几。

而EUV光刻机的核心技术,集中在哪方面上呢?

答案是德意志蔡司的高精度镜头,同样来自于德意志的精密工作台制造技术,以及2012年收购的Cymer的光源激光技术。

当然了,还有一个方面。

那就是EUV的很多专利,其实都在EUV LLC联盟手里。

而这个联盟是由谁组成的呢?

答案还是美利坚。

其成员包括英特尔、美利坚能源部、摩托罗拉、AMD、美利坚的三大国家实验室劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室……

最后才是阿斯麦。

这样看来,阿斯麦,倒是像极了一个被推到前台的傀儡。

所以,阿斯麦算是应运而生。

为什么这么说呢,就是因为它崛起的时机太好了。

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